一、箱式真空气氛炉介绍
箱式真空气氛炉应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结，也适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及需快速升温工艺要求的热处理。

二、真空气氛保护箱式气氛炉特点
1.设备主体采用双层钣金结构，双层钣金之间装有风机，加强对流，设备外表面温度低。
2.炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
3.炉膛材料采用优质氧化铝多晶纤维真空吸附制成，较传统耐火材料，热损耗低。
4.加热元件采用电阻丝，发热均匀，热效比高，使用寿命长。加热元件悬挂于炉膛内，维护简便。
5.温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力等功能。
6.炉膛有效区域内温场均匀性优异，经实地权威检测≤±5℃，符合国标二级电炉标准。
7.炉内可以通氩气、氮气等多种气体，并能预抽真空，真空度可达-0.08MPa，气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成。

注：箱式真空气氛炉可根据用户要求另行设计制造，其他规格及参数和详细技术方案请来电咨询：0510-87195028 18888033558吴经理