产品名称：半导体退火真空气氛炉 气氛保护炉 热处理炉

一、概述

半导体退火真空气氛炉 气氛保护炉 热处理炉是专为半导体材料及器件研发、生产定制的高精度热处理设备，核心适配硅片、晶圆、半导体芯片、半导体粉体、外延片等的真空退火、气氛退火、杂质扩散、氧化、还原等工艺，广泛应用于半导体、微电子、光伏等领域，是半导体材料制备与器件加工的核心装备。

二、温度与功率参数

· 加热功率：约 46KW（实际功率由仪表根据热损耗自动调控）

· 额定温度：700℃

· 常规使用温度：≤650℃（温度可调）

· 升温速率：0-15℃/min

· 控温精度：恒温状态下 ±1℃

· 分度号：K 型

三、加热与保温配置

· 加热元件：电阻丝

· 加热方式：上下分区加热

· 温区控制：上下独立控温，2 点精准控温

· 保温材料：氧化铝纤维板、氧化铝纤维棉

· 炉体保温：采用氧化铝陶瓷纤维保温结构，搭配纳米纤维材质，有效防止热量外溢，升温速度快、保温性能优良，节能降耗。

注：半导体退火真空气氛炉 气氛保护炉 热处理炉等其他型号规格可以根据用户实际需求设计，价格仅参考，欢迎咨询详谈：0510-87195028 18888033558 吴经理。